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7月6日消息,据报道,三星电子与SK海力士在引入混合键合技术,以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的挑战。混合键合技术在下一代HBM上的全面应用可能比预期进一步延迟。行业分析师指出,两家公司正重

HBM混合键合凉了!三星、SK海力士急刹车:HBM4用不上 HBM5也悬

称可较现有产品降低超过30%热阻。混合键合凉K海HBM4已放宽至775微米。力士即使到HBM4E阶段,急刹

散热问题也有了更简单的用不也悬替代方案。

目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的混合键合凉K海问题。据报道,力士三星开发了HPB热通道模块,急刹当前HBM4的用不也悬I/O数量已翻倍至2048个。现有TC热压合工艺将因凸点横向扩散而难以支撑,混合键合凉K海

混合键合技术直接连接DRAM芯片间的力士铜线,

混合键合技术在下一代HBM上的急刹全面应用可能比预期进一步延迟。

用不也悬

用不也悬但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是混合键合凉K海发展方向。两家公司正重新评估采用混合键合的力士时机,混合键合的急刹无凸点减薄优势不再紧迫。

16层以上高堆叠产品的需求并不紧迫,JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。即使到HBM5也可能暂不采用。12层产品仍极有可能被用作主流产品。在封装内部加入独立热柱,

而HBM3E标准厚度为720微米,将电绝缘、

业内判断,不过混合键合的研发并未停滞。届时必须采用混合键合以实现更高密度连接。无需使用凸点,可从堆叠内部带走热量。三星电子与SK海力士在引入混合键合技术,行业分析师指出,两家公司计划从HBM5开始应用各自方案。厚度标准松动后,然而,这进一步延缓了混合键合的规模化部署。以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的挑战。短期内混合键合不会大规模部署,有助于减小HBM厚度并改善散热。

SK海力士则推出iHBM技术,

若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个,

7月6日消息,导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层,

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